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SOLIC ACID 5%ige Lösung - rein 10L WARCHEM GMC SK Halbleitertechnik: Verwendung zur selektiven Entfernung
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Description
Halbleitertechnik: Verwendung zur selektiven Entfernung von Oxidschichten in mikroelektronischen Prozessen - ausschließlich unter Reinraum- und Hochsicherheitsbedingungen
Galvanotechnik: Verwendung in der Zinkelektroplattierung zur Oberflächenbehandlung von Metallen
Organische Synthese: In der organischen Chemie wird es in sehr kleinen Mengen als Oxidationsmittel zur Dihydroxylierung von Alkenen eingesetzt
das in verschiedenen Branchen eingesetzt werden kann
10 Minuten Carbonylverbindungen (d
SOLIC ACID 5%ige Lösung - rein 10L WARCHEM GMC SK Halbleitertechnik: Verwendung zur selektiven EntfernungTechnische Informationen zu chemischen Reagenzien: Chemische Form: HCl CAS Nummer: 7647 01 0 EG Nummer: 231 595 7 Synonyme: Salzsure, Salzsurelsung 5% Gattung: Rein Reinheit: 5% Aussehen: farblose, klare Flssigkeit Dichte: ca. 1,023 g ml Molmasse: 36,46 g mol Verpackung: Plastikflasche Lagerfhigkeit: mindestens 12 Monate ab Lieferung pH Wert: < 1 (in Lsung) Lslichkeit: vollstndig mischbar mit Wasser Sevapoint (nnt): ca. 102 C Beispiele fr
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