M01500 - SEMI M15 - 半絶縁ガリウムヒ素ウェーハ用の鏡面ウェーハの許容表面欠陥表 StdVol-Safety Guidelines Wafer thickness and diameter for

Wafer thickness and diameter for this Test Method is limited only by the range of microscope stage motions available

and the general map data format document

For the purpose of this test HCl is the preferred test gas

Knowledge of these characteristics can help the supplier and customer determine if the dimensional characteristics of a particular wafer satisfy given geometrical requirements

何年にもわたり，1107 cm-1に於ける室温での赤外線吸収ピークからシリコン中の格子間酸素濃度を計算するのに用いる多くの校正係数が世界各地域の標準化開発組織によって標準化されてきている。そのようなすべての標準は，その後シリコン中の酸素濃度と吸収ピークとの相関をより正確に相関付けしているIOC-88 校正係数1

M01500 - SEMI M15 - 半絶縁ガリウムヒ素ウェーハ用の鏡面ウェーハの許容表面欠陥表 StdVol-Safety Guidelines Wafer thickness and diameter forGaAs Referenced SEMI Standards None.